Сравнение технологических процессов по нанесению PVD и CVD на поверхность режущего инструмента Физическое осаждение из паровой фазы При процессе

Сравнение технологических процессов по нанесению PVD и CVD на поверхность режущего инструмента Физическое осаждение из паровой фазы При процессе

Сравнение технологических процессов по нанесению PVD и CVD на поверхность режущего инструмента Физическое осаждение из паровой фазы При процессе PVD покрытие образуется за счет конденсации металлического пара на поверхности пластины. Процесс нанесения PVD покрытия аналогичен образованию льда на дороге влажный воздух конденсируется на холодную дорогу, формируется слой льда. PVD покрытие образуется при значительно более низкой температуре, чем CVD. Нормальный процесс PVD проходит при температуре 500 °С. Толщина покрытия находится в пределах 2-6 мкм в зависимости от области применения пластины. CVD (Химическое осаждение из паровой фазы) При процессе CVD покрытие образуется в результате химической реакции различных газов. Температура, время, поток газа, газовая среда и т.д. тщательно отслеживаются для управления осаждением слоев покрытия. В зависимости от типа покрытия температура в камере может быть от 800 до 1100 градусов. Чем толще покрытие, тем больше время процесса. Толщина самого тонкого CVD покрытия на сегодняшний день составляет около 4 мкм, а самого толстого около 20 мкм. PVD CVD Тоньше покрытие Острее кромки Прочнее Толще покрытие Выше износостойкость Термостойкость SANDVIK H 53 Производство твёрдосплавных пластин PVD (